关于电化学方面论文范文文献,与勇于引领微电子屡创辉煌相关论文答辩

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他从事科研工作40余年,为微电子发展作出了创造性贡献；他集发明者、科学家于一身,大大提高了科研成果的转化率；他被人们称为发明家,屡获国家发明大奖；他极具创新性思维,走出了一条属于自己的人生之路.

创新IC平坦化技术与材料达国际领先水平

碱性化学机械平坦化技术被认为是最具发展潜力的低强度Cu/low-k表面低压力平坦化技术之一,目前全世界已花数亿元巨资研发的电化学抛光技术（ECMP）,仍难以应用.刘玉岭早在2000年就创造性地发明了以化学作用为主的碱性CMP材料与相应工艺技术,低于目前世界花数亿元巨资研发的电化学抛光（ECMP）机械压力的三分之一.

该项技术克服了占世界市场60%的酸性强机械研磨后溶解机理模型存在的速率低、机械作用大、工艺复杂等难题,为GLSI向45nm以下产业化发展做出创造性贡献,该技术已获国家发明专利16项.

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可能很多人都不知道,我国的神舟系列飞船的顺利飞行也有刘玉岭教授的一份功劳.他发明的“FA/O均腐蚀抛光液与抛光技术”,由于采用的是自己研发的强络合剂（同时作pH调节剂,缓蚀剂）,用此抛光液加工的IC衬底片更是成为唯一最可靠的神五、神六、神七飞船专用电路硅衬底,为航天事业作出贡献,获国家发明三等奖,被国家5部委审评为国家级新产品,被科技部列为国家科技成果重点推广计划.

创新外延材料制备技术

IC衬底外延材料滑移线是影响器件电特性的晶体缺陷,为此他首先研究了产生的机理模型,发明了“弧线机械分散应力技术”,2009年获美国专利.

此外,他研究的“硅外延BC技术”,将静态滞流层动态化,有效解决了硅气相外延自掺杂、厚度均匀性与电阻率一致性、雾缺陷、薄层高阻等关键技术难题；发明的“反向补偿优化理论与技术”,远远超过国际上单项参数分别解决的复杂工艺.该成果获国家发明三等奖,并被上海硅材料厂、电子十三所等多家企业规模应用.

由于他的突出贡献,先后被国家授予国家级有突出贡献中青年专家、河北省十大发明家、河北省高层次创新型特别优秀人才、天津市劳动模范等称号,他领衔创建了微电子技术与材料相结合的产学研实体,建立6000吨表面加工耗材生产线,产品已在京、津、沪、浙等十多个省市的引进生产线上取代了进口,进行新技术培训一千余人次.国家工程物理九院、洛阳空空导弹研究院、电子45所等众多企业与他签订了技术协议.也还是国家重点安全基金NSAF等项目的技术负责人.以及国家中长期科技发展重大专项项目的技术负责人,项目实现了多项重大突破,在理论方法、技术路线与材料上均有重大创新.项目成果在2012年被国家验收,被评为优秀,且该成果促进了相关领域的技术提升.

在紧张的科研生活之外,他还特别注重教育,着力培养更多更优秀的

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他用自己的努力和所取得的成就,诠释了如何成为―名优秀的科学工作者和教育工作者,是那份执着,是那份淡定,是心中对于祖国的梦想,让他获得了源源不断的创新动力.

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